その超音波セルブレーカートランスデューサーを介して電気エネルギーを音エネルギーに変換します。このエネルギーは液体媒体を通して高密度の小さな気泡へと変化します。これらの小さな気泡は急速に破裂し、エネルギーを発生させます。このエネルギーは細胞やその他の物質を破壊する役割を果たします。

超音波細胞粉砕機組織、細菌、ウイルス、胞子などの細胞構造を破壊し、均質化、乳化、混合、脱気、崩壊分散、浸出抽出、反応促進などの機能を持っているため、生物学、医学、化学、製薬、食品、化粧品、環境保護などの実験研究や企業生産に広く使用されています。

超音波粉砕機の主な洗浄方法は次のとおりです。

1. 半水性洗浄。近年、伝統的な溶剤洗浄をベースに改良された新しいプロセスが徐々に開発・成熟し、溶剤のいくつかの弱点を効果的に回避できます。無毒で臭いも少なく、廃液は下水処理システムに排出できます。設備のサポート機器が少なく、溶剤よりも耐用年数が長く、運用コストも溶剤よりも低いという利点があります。半水性洗浄剤の顕著な利点の一つは、研磨粉などの無機汚染物質に対する洗浄効果が優れていることです。これにより、後続ユニットにおける水性洗浄剤の洗浄圧力が大幅に軽減され、水性洗浄剤の耐用年数が延び、水性洗浄剤の使用量が減少し、運用コストが削減されます。

2.溶剤洗浄。従来の方法と比較して、洗浄速度が速く効率が高く、溶剤自体も連続的に蒸留・リサイクルできるという利点があります。しかし、欠点も明らかです。光学ガラスの生産環境は一定の温度と湿度を保つ必要があり、しかも密閉された作業場であるため、溶剤の臭いが作業環境に影響を及ぼす可能性があります。特に密閉されていない半自動洗浄装置を使用する場合は、その影響が顕著です。

3. コーティング前に洗浄します。コーティング前に洗浄すべき主な汚染物質は、コアオイル、指紋、埃などです。コーティング工程ではレンズの清浄度が極めて厳格に求められるため、洗浄剤の選定は非常に重要です。洗浄剤の洗浄力を考慮すると同時に、腐食性などの問題も考慮する必要があります。

4. コーティング後は洗浄してください。一般的には、インク塗布前の洗浄、接合前の洗浄、組み立て前の洗浄が含まれますが、その中でも接合前の洗浄は厳密に求められます。接合前に洗浄する必要がある汚染物質は、主に埃や指紋などの混合物です。洗浄は難しくありませんが、レンズ表面の清浄度に対する要求は非常に高くなっています。洗浄方法は、前述の2つの洗浄工程と同じです。